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本文標題:"釉燒過(guò)程與釉層結構固態(tài)或半固態(tài)微粒夾雜檢測顯微鏡"

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釉燒過(guò)程與釉層結構固態(tài)或半固態(tài)微粒夾雜檢測顯微鏡

 
 
釉燒過(guò)程與釉層結構
 
  釉燒上放釉工藝的關(guān)鍵問(wèn)題之一,釉燒溫首先決定于其成分之低
熔點(diǎn)物質(zhì)之含量,成分決定后,溫度則已決定,雖然釉的基本結構
是屬于玻璃相,但其工藝方式和物理、化學(xué)過(guò)程均與玻璃不同,相
對于玻璃而言,釉是在低于徹底熔融的溫度下燒成的,故和玻璃相
比,其化學(xué)反應是夠完全,釉質(zhì)結構不夠均勻,在釉燒溫度之下,
 
通常都還有相當大數量的固態(tài)或半固態(tài)微粒夾雜于其中,故釉層一
般都是乳濁,半我是的,如果連續維升高釉燒溫度,也可能使反應
更徹底些,釉層更透明些,
 
但這時(shí)將出現兩種現象,一為釉層流失,二為釉料被瓷體大量吸收
,同樣不能保證釉層光潔度與致密性,故釉燒溫度不宜過(guò)高,時(shí)間
 
不宜過(guò)短,讓其盡可能地達到反應充分,結構均勻,對基體有一定
的滲透,交界處充分潤滑,略有溶解或反應形成一種具有化學(xué)結構
形的過(guò)渡層組織,而又不會(huì )被基體所大量吸收,升溫也不宜過(guò)快,
隨著(zhù)固相物質(zhì)不斷被溶入液相,液相的粘度也不斷提高,其對溫度
又可相應地提高一些。
 

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