橢圓偏光儀基本上是利用反射光相對于入射光偏極態(tài)的轉變，以反推介質(zhì)的光學(xué)特性。

為了測量變化中的材料，如電漿蝕刻薄膜、真空鍍膜過(guò)程的沉積速率和厚度、加溫中的晶體以及高分子的感光過(guò)程，

 

對橢圓偏光儀測量速度的改進(jìn)已成為近年來(lái)業(yè)界研究的主要目標。

 

簡(jiǎn)式到線(xiàn)上即時(shí)監控的橢圓偏光儀的研究已有十多年。從將補波片換成光彈調變器，

我們將快速資料擷取卡裝置在系統中。最近所提出的記錄后分析法，已可在20 µs測量一組橢圓偏光參數。

 

 

本文提出一雷射反射光彩像結合標準探針式粗糙度量測方法，以已知波長(cháng)之He-Ne雷射光爲光源，預估其反射影像線(xiàn)寬與粗糙度(R(下標 a))之關(guān)系。量測系統建立在材料、入射角、波長(cháng)及檢測距離等參數設定下，可獲得一簡(jiǎn)單量測執行模式。此執行模式經(jīng)由多次實(shí)驗值顯示均可供生產(chǎn)線(xiàn)上之相同材料粗度檢驗，其R(下標 a)值量測不準確度在0.034μm以?xún)取?/div>

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橢圓偏光儀的原理反射光對于入射光偏極-光學(xué)特性,金相顯微鏡現貨供應

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