本文標題："研磨或拋光磨光面的質(zhì)量分析顯微鏡"
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研磨或拋光磨光面的質(zhì)量分析顯微鏡
光片磨光面的質(zhì)量
用金剛砂從粗到細將試樣小塊一面磨平并拋光成平面，稱(chēng)為光片的
磨光面或拋光面，合格的應是準物理鏡面，不存在擦痕和麻點(diǎn)等缺陷
。所謂物理鏡面是不存在任何凹凸的平面，平行光線(xiàn)照射只產(chǎn)生單向
反射光線(xiàn)，沒(méi)有漫反射及亂反射，因為粗糙的光片表面將使試樣內細
小的物相顆粒、點(diǎn)滴狀包裹物、物相周?chē)∧畎?、顆粒間結合
層及界面結構等特征，都不能很好地被暴露出來(lái)，還影響反光性質(zhì)的
正確測定。
擦痕是在研磨或拋光過(guò)程中較粗的金剛砂未洗凈帶到下道工序，
或試樣中較硬的晶體剝落使磨光面產(chǎn)生較深的劃痕而未磨掉所造成的
；麻點(diǎn)則是較細的一級金剛砂未將較粗金剛砂研磨產(chǎn)生的凹坑磨乎，
殘留在磨光面上拋光時(shí)間不夠造成的。擦痕和麻點(diǎn)的存在均會(huì )影響顯
微結構的研究和結晶體的鑒定。光片上存在這類(lèi)缺陷必須重新進(jìn)行精
磨和拋光。
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